YOSHI AVCT CO., LTD.

Yoshi est Livré à partir d'un anciennement spécialisée dans la production de ito verre pour écran tactile applications et a été bien-connu au Japon depuis des années. Accumulé plus de 10 années d'expérience dans le domaine de vide de pulvérisation, Yoshi peut fournir de haute fiabilité et haute performance produits et garder une bonne relation avec les clients comme des partenaires. Dans l'ordre à créer plus de produits à valeur ajoutée et la technologie innovante, nous sommes experts dans le vide cibles de pulvérisation et optique conception, Et peut fournir le meilleur service et solution totale de l'échantillon initiale scène à la production de masse. Société de technologie de base: 1. Basse température cibles de pulvérisation technologie faible température cibles de pulvérisation est un revêtement sous vide technologie qui peut être utilisé largement sur différents matériaux de substrat. Plasma produire AR ions et bombard objectifs (tels que le cuivre, chrome, d'aluminium, etc), et ensuite cibler atomes était enduit sur la surface de substrat. Cibles de pulvérisation traditionnelle est en utilisant haute température autour de 300 degrés Celsius, qui peut pas s'adapter le Divers Type de substrats. Yoshi de faible température cibles de pulvérisation peut garder la température inférieure à 100 degrés Celsius et être installé de nombreux différents substrats comme des feuilles de plastique. 2. Multiples haute vide pulvérisation magnétron équipements actuellement la technologie de pulvérisation cathodique peuvent être divisées en deux DC et RF cibles de pulvérisation base sur différents alimentation. DC cibles de pulvérisation peut être utilisé sur un matériau conducteur. Normalement oxygène (O2) ou azote (N2) peut être mis dans la chambre pour réactive cibles de pulvérisation. RF cibles de pulvérisation peut être largement utilisé dans une variété de matériaux, plus couramment utilisé en non-conductrice matériau. Yoshi peut rapidement et de manière flexible répondre à la clientèle demande de base sur posséder différents vide cibles de pulvérisation équipement. ( 1) Multi-couches de revêtement: haute efficacité et productivité (2) Horizontal Type: facile pour l'entretien et préparer des cibles 3.Le seulement une faible température cibles de pulvérisation ITO verre dans le monde faible température revêtement de pulvérisation Et puis recuit processus peut produire plus épais et mieux cristallin ito couches qui effectuer haute Fiabilité, stabilité Propriétés et mieux substrat Résistance. Il peut être très approprié pour fa et voiture Navigator TP applications. Normalement, ito couche cristallin niveau peut être vérifié par xed (2,2, 2) de pointe. De la fig ci-dessus, nous pouvons voir Yoshi spécial à deux étages faible température processus se Better ito cristallin niveau, puis traditionnelle un stade haute température processus. Pour résistif tactile panneau, le meilleur rugosité gamme est 0.7 ~ 1.1nm pour ITO verre, qui peut améliorer ito abradabilité.